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描述：這是一種用于測(cè)量光譜絕對(duì)反射率，L*a*b*成色值和生長(zhǎng)速率的非接觸式測(cè)量設(shè)備。kSA SpectR 光譜反射率測(cè)試設(shè)備具有多種在線(xiàn)監(jiān)控和過(guò)程控制的應(yīng)用功能，包括垂直腔表面發(fā)射激光器（VCSEL），分布式布拉格反射器（DBR）和其他一些復(fù)雜的設(shè)備結(jié)構(gòu)。該設(shè)備主要應(yīng)用于監(jiān)控測(cè)量sputtering，MBE和MOCVD等薄膜生產(chǎn)研究。
| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池 |
kSA SpectR 光譜反射率測(cè)試設(shè)備是一種用于測(cè)量光譜絕對(duì)反射率，L*a*b*成色值和生長(zhǎng)速率的非接觸式測(cè)量設(shè)備。該工具具有多種在線(xiàn)監(jiān)控和過(guò)程控制的應(yīng)用功能，包括垂直腔表面發(fā)射激光器（VCSEL），分布式布拉格反射器（DBR）和其他一些復(fù)雜的設(shè)備結(jié)構(gòu)。該設(shè)備主要應(yīng)用于監(jiān)控測(cè)量sputtering，MBE和MOCVD等薄膜生產(chǎn)研究。
kSA SpectR 光譜反射率測(cè)試設(shè)備的光學(xué)鏡組被配置為鏡面反射的幾何形狀。在這種測(cè)量原理中，薄膜每生長(zhǎng)出一個(gè)新layer，程序就會(huì)自動(dòng)擬合，將已有的所有基底和薄膜layer視為一個(gè)新的虛擬基底。kSA SpectR可以同時(shí)以多個(gè)波長(zhǎng)進(jìn)行測(cè)量，每個(gè)波長(zhǎng)都具有潛在的特性。此設(shè)備可在選定的波長(zhǎng)范圍內(nèi)測(cè)量自定義光譜特征，如反射率的最小值、最大值、拐點(diǎn)或基線(xiàn)散射水平。
測(cè)量實(shí)例
850 nm DBR的光譜反射率
在GaAs襯底上生長(zhǎng)250nm的AlAs和500nm的GaAs時(shí)，532和940nm下的反射率及其擬合曲線(xiàn)
AlAs生長(zhǎng)期間的生長(zhǎng)速率，光學(xué)常數(shù)和反射率實(shí)時(shí)擬合曲線(xiàn)
AlAs和GaAs生長(zhǎng)的未經(jīng)校正的高溫計(jì)測(cè)量結(jié)果和經(jīng)過(guò)校正的ECP溫度
GaAs薄膜生長(zhǎng)過(guò)程中單個(gè)反射率振蕩周期圖
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